沈阳第一机床厂机床销售中心

产品搜索

	企业新闻
	行业动态
	机床技术

联系方式

地　址：沈阳市铁西区兴工北街50号4门

邮　编：110025

电　话：024-25846605、25845232

传　真：024-25845232

手　机：18940012688

网　址：www.smtclsc.com

邮　箱：sydyjcc@sydyjcc.cn

首页 > 行业动态 > 巴斯夫赢创合作研发化学机械研磨液

巴斯夫赢创合作研发化学机械研磨液

2009年1月31日

　　赢创和巴斯夫近日宣布，双方将合作发展二氧化铈研磨液来制造计算机芯片。双方预期合作研发出的研磨液将在2009年商品化。
　　
　　据介绍，研磨液内含有纳米材料如铈元素，可用在CMP (化学机械研磨) 制程中抛光二氧化硅的晶片表面，以达到非常平坦的效果。集成电路制造过程中最重要的步骤就是STI(浅沟槽隔离) 和ILD (内层介电层)，而STI则需要使用到CMP研磨液。
　　
　　赢创无机材料事业部有关负责人介绍，随着较小尺寸芯片的问世，CMP对于集成电路的制备日益重要。赢